smpl
USOLABBio Hydrating Destress MaskАнтивозрастная восстанавливающая антистресс-маска
Маска-антистресс на основе гиалуроновой кислоты и успокаивающего растительного комплекса.
5 400 ₽
- О товаре
- Состав
- Применение
| Бренд | |
|---|---|
| Производство | Южная Корея |
| Потребность кожи | Противовоспалительное действие, Увлажнение, Антиоксидантная защита |
| Область применения | |
| Проблематика | |
| Тип кожи | Любой тип кожи |
| Артикул | US16 |
|---|
Bio Hydrating Destress Mask повышает уровень увлажненности кожи, мгновенно успокаивает, снимает дискомфортные ощущения после пилинга, инвазивных и аблятивных процедур, оказывая противоотечное воздействие.
Маску можно использовать как экспресс-маску или как ночную маску.
Активные компоненты:
- гиалуроновая кислота,
- лактобактерии,
- центелла,
- бетаин,
- пантенол,
- успокаивающий растительный комплекс,
- масло подсолнечника,
- масло лаванды
Sodium Hyaluronate Solution (1%), Centella Asiatica Extract, Glycerin, Sunflower Seed Oil, Cetearyl Alcohol, Butylene Glycol, Glyceryl Stearate, PEG-100 Stearate.ю Caprylic/Capric Triglyceride, Cetyl Ethylhexanoate
Sodium Hyaluronate, Carbomer, Linoleic Acid, Folic Acid, Allantoin, Panthenol, Betaine, Trehalose, Dimethicone, Tromethamine, Propanediol, Pentylene Glycol, Cocos Nucifera (Coconut) Fruit Extract, Pinus Sylvestris Leaf Extract, 1,2-Hexanediol, PEG-60 Hydrogenated Castor Oil, Lavandula Angustifolia (Lavender) Oil, Gardenia Florida Fruit Extract, Hydrolyzed Hyaluronic Acid, Hyaluronic Acid, Hydrolyzed Sodium Hyaluronate
Salix Alba (Willow) Bark Extract, Origanum Vulgare Leaf Extract, Chamaecyparis Obtusa Leaf Extract, Lactobacillus/Soybean Ferment Extract, Cinnamomum Cassia Bark Extract, Scutellaria Baicalensis Root Extract.
Portulaca Oleracea Extract, Sodium Hyaluronate Crosspolymer, Limonene, Linalool
Как экспресс-маска: на 15 минут 1-2 раза в неделю.
Как ночная маска: 2 раза в неделю не смывая.
